Г-н Отеллини рассказал, что корпорация инвестировала в строительство заводов для производства продукции по 45-нм технологии более $9 млрд. Площадь производственных помещений на этих заводах превышает 45 тыс. квадратных метров. Он также продемонстрировал график разработки новых микроархитектур Intel, согласно которому в 2008 году планируется появление 45-нм микроархитектуры под кодовым наименованием Nehalem, а в 2010 году — 32-нм микроархитектуры под кодовым наименованием Gesher. Эти новые архитектуры будут разрабатываться параллельно разными группами инженеров, и выпуск продукции на их базе начнется по мере внедрения будущих производственных технологий.
«К концу десятилетия мы достигнем увеличения производительности на один ватт на 300% по сравнению с современными процессорами, — уверен он. — Повышение производительности и энергосбережения позволит разработчикам и вендорам создавать передовые системы с совершенно новыми возможностями».
все новости
![Мы [В]КОНТАКТЕ](http://www.maxhost.ru/i/vkb.jpg "Мы [В]КОНТАКТЕ")
